国产“羲之”光刻机诞生，0.6纳米精度比肩国际

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　　近日，坐落于杭州城西科创大走廊浙大成果转化基地的全国首台国产商业电子束光刻机 “羲之”，已进入应用测试阶段，其精度达到 0.6 纳米，比肩国际主流设备，标志着量子芯片研发有了 “中国刻刀”。

　　与常用的 EUV 光刻机不同，“羲之” 以高能电子束为 “笔”，直接在硅基芯片上 “手写” 电路图案，无需掩膜版，如同艺术家精雕细琢;而 EUV 光刻机则利用极紫外光，通过掩膜版投影，像工业流水线般实现整片晶圆的快速曝光。

　　性能方面，“羲之” 精度达 0.6 纳米，线宽 8 纳米，远超 EUV 主流设备，但每加工一片晶圆需耗费数小时，效率远低于 EUV 光刻机每小时上百片的产出。

　　应用场景上，“羲之” 专注于高精度、小批量需求，如量子芯片原型、先进封装等，能大幅缩短国内企业和机构的芯片研发迭代周期，且设备价格比国际同行低 30%，还省去掩膜版成本;EUV 光刻机则擅长 CPU、存储芯片等大规模消费产品制造。

　　长期以来，欧美垄断高端光刻设备，“羲之” 的诞生打破了这一局面，为我国半导体研发提供自主可控的关键装备，助力从实验室到市场的转化。未来，随着多电子束技术发展，国产设备在先进封装领域份额有望进一步提升，推动新能源车、AI 芯片等行业发展。

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